第一條 為了保護集成電路布圖設計專有權，鼓勵集成電路技術的創新，促進科學技術的發展，制定本條例。　

　　第二條 本條例下列用語的含義：　

　　（一）集成電路，是指半導體集成電路，即以半導體材料為基片，將至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路集成在基片之中或者基片之上，以執行某種電子功能的中間產品或者最終產品；　

　　（二）集成電路布圖設計（以下簡稱布圖設計），是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置，或者為制造集成電路而準備的上述三維配置；　

　　（三）布圖設計權利人，是指依照本條例的規定，對布圖設計享有專有權的自然人、法人或者其他組織；　

　　（四）復制，是指重復制作布圖設計或者含有該布圖設計的集成電路的行為；　

　　（五）商業利用，是指為商業目的進口、銷售或者以其他方式提供受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品的行為。　

　　第三條 中國自然人、法人或者其他組織創作的布圖設計，依照本條例享有布圖設計專有權。　

　　外國人創作的布圖設計首先在中國境內投入商業利用的，依照本條例享有布圖設計專有權。　

　　外國人創作的布圖設計，其創作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協議或者與中國共同參加有關布圖設計保護國際條約的，依照本條例享有布圖設計專有權。　

　　第四條 受保護的布圖設計應當具有獨創性，即該布圖設計是創作者自己的智力勞動成果，并且在其創作時該布圖設計在布圖設計創作者和集成電路制造者中不是公認的常規設計。　

　　受保護的由常規設計組成的布圖設計，其組合作為整體應當符合前款規定的條件。

　　第五條 本條例對布圖設計的保護，不延及思想、處理過程、操作方法或者數學概念等。　

　　第六條 國務院知識產權行政部門依照本條例的規定，負責布圖設計專有權的有關管理工作。

　　第二章 布圖設計專有權

　　第七條 布圖設計權利人享有下列專有權：　

　　（一）對受保護的布圖設計的全部或者其中任何具有獨創性的部分進行復制；　

　　（二）將受保護的布圖設計、含有該布圖設計的集成電路或者含有該集成電路的物品投入商業利用。　

　　第八條 布圖設計專有權經國務院知識產權行政部門登記產生。　

　　未經登記的布圖設計不受本條例保護。　

　　第九條